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Sistemas ALD monitorizados en tiempo real

Se pueden realizar análisis de propiedades de la película (tasa de crecimiento, el espesor, índice de refracción) sin romper el vacío, desarrollar nuevos procesos en un periodo corto de tiempo y el estudio de los mecanismos de reacción durante cada uno de los ciclos en tiempo real son las principales aplicaciones de estos equipos.

El ALD de SENTECH monitorizado en tiempo real es una herramienta de diagnóstico óptica novedosa que permite ultra-alta resolución de cada ciclo ALD.
Sistemas ALD monitorizados en tiempo real
Desarrollo de procesos eficientes y optimizados

Los procesos ALD son rápidos y fácilmente desarrollan y optimizan el uso de ciclos ALD individuales. El sistema ALD monitorizado en tiempo real muestra la adsorción y desorción con ultra-alta resolución (40 ms). Se ahorra tanto en tiempo de desarrollo, en sustratos, precursores, y en gases.

Ahorro del precursor

El procesamiento ALD se vuelve más eficiente después de la optimización con este equipo. Se ahorra precursor y tiempo de procesamiento.

Control de los precursores

Este equipo detecta cuando el suministro de precursor se está acabando, indicado por un cambio en el ciclo de crecimiento que está siendo monitorizado.


El ALD de SENTECH monitorizado en tiempo real es una herramienta de diagnóstico óptica novedosa que permite ultra-alta resolución de cada ciclo ALD. Se pueden realizar análisis de propiedades de la película (tasa de crecimiento, el espesor, índice de refracción) sin romper el vacío, desarrollar nuevos procesos en un periodo corto de tiempo y el estudio de los mecanismos de reacción durante cada uno de los ciclos en tiempo real son las principales aplicaciones de estos equipos.

Especialmente diseñado para el desarrollo de procesos rápidos y eficientes y la optimización de los sistemas de depósito de capas atómicas de SENTECH. El software permite un fácil manejo de los sistemas ALD SENTECH y ALD monitorizado en tiempo real.

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