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Equipamiento para proceso

Horno tipo vertical para crecimiento de cistales, soluciones para I+D y producción que permiten la fabricación de grafeno, herramienta de deposición química para nanotubos de carbón, grafeno y nanocables, sistemas CVD, PECVD, MOCVD y sistema de depósito químico por reactor, entre otros.

EasyCrystal

Horno tipo vertical (Bridgman) para crecimiento de cristales: contiene dos subsistemas controlados independientemente y situados en configuración vertical, llamados horno de “Fusión” y de “Crecimiento”. Ambos hornos son capaces de operar de temperatura ambiente hasta 1200ºC y ajustables en incrementos de 1ºC, e incluyen un software de control de proceso para control en tiempo real, display de datos, generación de recetas y edición.

EasyGraphene

Soluciones para I+D y producción, permite la fabricación de grafeno de 50mm a 300mm en diversos substratos (obleas, láminas, rollo).

EasyTube 101

Sistema sencillo y de bajo coste para investigación y desarrollo, tanto en los Centros de Investigación como en la industria, y consta de una plataforma modular con hasta 8 líneas de entradas de gases, de las cuales se pueden configurar tres para fuentes sólidas o líquidas, y se puede configurar para procesos tanto en vacío como a temperatura atmosférica, y está configurado para llevar a cabo una gran cantidad de procesos como nanotubos de carbón, grafeno, nanotubos, APCVD, LPCVD, epitaxial, óxidos, nitruros, fusión, difusión, infiltración de vapores químicos, ALD, etc. Utilizando distintas combinaciones de precursores de gases y líquidos.

EasyTube 2000

Herramienta de deposición química (CVD) para nanotubos de carbón, grafeno y nanocables, que con los sistemas de control HotLoad  y FastCool permite el calentamiento y enfriamiento rápido de las muestras, con lo que se consigue mejor calidad en SWCNT y grafeno, pudiendo completar el proceso en una hora.

Equipamiento para procesos_CVD

EasyTube 3000

Sistema de deposición química y recocido térmico (CVD) que es capaz de sintetizar una gran cantidad de nanoestructuras y películas delgadas como SW/MWCNT, grafeno, nanocables como Si, Ge, ZnO, GaN, Bn, y películas delgadas Si, SiO2 y Si3N4 utilizando una combinación de hidruros, líquidos y precursores sólidos, y se puede configurar para aplicaciones de recocido, selenización y/o sulfuración.

EasyTube 4000

PECVD para nanomateriales y depósitos en capa fina, optimizado para el desarrollo del proceso controlado y seguridad del usuario, con temperaturas hasta 1100ºC y tamaño de obleas de hasta cuatro pulgadas (101.6mm).

EasyTube 5000

MOCVD para una amplia variedad de capas II-V,  II-VI y IV, capaz de depositar en obleas de hasta 150mm de diámetro.

EasyTube 6000

Horno horizontal multicapa de cuatro tubos para LPCVD, CNT, fortalecer, difusión y oxidación, y configurado para trabajar a presión atmosférica como en vacío.

EasyTube 8000

Sistema de depósito químico por reactor de lecho fluidizado por calentamiento mediante inducción RF, es una unidad controlada automáticamente y diseñada para operar a temperaturas de hasta 800ºC ó 1500ºC.

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