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PECVD direct loading system Depolab 200

Combina la carga directa más efectiva y fuente de plasma de placas paralelas en un diseño básico y compacto. El sistema PECVD inteligente puede ser actualizado para mejorar el rendimiento bajo petición.

Depósito asistido por plasma (PECVD)Rentabilidad

El sistema Plasma PECVD Depolab 200 combina un diseño de fuente de plasma de placas paralelas con carga directa.

Capacidad de actualización

De acuerdo a su diseño modular, el PECVD Depolab 200 es actualizable a una unidad mayor bombeo, suministro eléctrico de baja frecuencia y líneas de gas adicionales

Software de control SENTECH

Potente software fácil de usar con interfaz gráfica de usuario GUI, ventana de parámetros, editor de recetas, registro de datos, gestión de usuarios..

Depolab 200 es la herramienta PECVD básica de SENTECH que combina las ventajas de un diseño de electrodos de placas paralelas para la deposición de película uniforme con el bajo coste y diseño eficaz de la carga directa. Comenzando con aplicaciones estándar en obleas de 2 "a 8" y piezas de muestra, que se puede actualizar paso a paso para un procesamiento más complejo

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